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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • SDH3實(shí)驗室高剪切分散機(jī)

    實(shí)驗室高剪切分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。SDH3是一種三級高剪切在線分散機(jī),用于生產(chǎn)非常精細(xì)的乳液和懸浮液。

    更新時間

    2025-09-05

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  • GRS2000食品高剪切分散機(jī)

    食品高剪切分散機(jī),高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是至關(guān)重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求,太倉希德在GR2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。

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    2025-11-24

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  • GMD2000石墨烯剪切分散機(jī)

    石墨烯剪切分散機(jī),SID研發(fā)出研磨式高剪切分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)合二為一,先研磨打開二級團(tuán)聚體,然后瞬間進(jìn)行分散均質(zhì),保證石墨烯漿料的細(xì)化和分散均勻。從而獲得高品質(zhì)的石墨烯超級電容漿料。

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    2025-11-20

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  • GRS2000維sheng素E軟膠囊分散機(jī)

    維sheng素E軟膠囊分散機(jī)是制藥行業(yè)專用設(shè)備,采用精密定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)。通過高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)剪切、乳化效應(yīng),將維生素 E 原料與輔料充分混合分散,形成均勻穩(wěn)定的油相體系。設(shè)備符合 GMP 標(biāo)準(zhǔn),密封性好、操作便捷,粒徑分布窄,能保障軟膠囊內(nèi)容物均一性,適配規(guī)?;a(chǎn)需求。

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    2025-11-12

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  • GMD2000鈾氧化物研磨分散機(jī)

    鈾氧化物研磨分散機(jī)是核能領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備,采用濕法研磨與閉環(huán)分散技術(shù)。 可將鈾氧化物物料細(xì)化至微米級,提升浸出效率,設(shè)備接觸部件采用耐輻照、耐強(qiáng)酸材質(zhì)。具備全封閉防泄漏設(shè)計,符合核工業(yè)安全標(biāo)準(zhǔn),操作可控,適配核燃料制備、核廢料處理等場景,保障作業(yè)安全與物料利用率。

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    2025-11-07

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  • GRS2000炭黑高速剪切分散機(jī)

    炭黑高速剪切分散機(jī)是針對炭黑高比表面積、易團(tuán)聚特性設(shè)計的專用設(shè)備,采用三級定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)與超 14000rpm 轉(zhuǎn)速,產(chǎn)生強(qiáng)剪切力高效打散團(tuán)聚體??蓪⑽锪霞?xì)化至微米甚至納米級,粒徑分布窄,適配高粘體系。適用于橡膠、油墨、涂料等領(lǐng)域,提升產(chǎn)品著色性與補(bǔ)強(qiáng)性能,兼顧研發(fā)與量產(chǎn)需求。

    更新時間

    2025-11-06

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  • GMD2000納米涂料高剪切分散機(jī)

    納米涂料高剪切分散機(jī)是適配納米涂料生產(chǎn)的專用設(shè)備,靠 15000rpm 以上高速轉(zhuǎn)定子產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,配合特殊分散腔,破除納米顏料團(tuán)聚體,實(shí)現(xiàn)均勻分散。 它能保障涂料粒徑均一(可達(dá)納米級)、提升附著力與耐候性,適配建筑、電子等領(lǐng)域納米涂料生產(chǎn),且易清潔、控溫精準(zhǔn),滿足高純度涂層需求。

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    2025-11-04

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  • GMD2000石墨烯漿料高剪切分散機(jī)

    石墨烯漿料高剪切分散機(jī)是針對石墨烯易團(tuán)聚特性設(shè)計的專用設(shè)備,核心靠超高速轉(zhuǎn)定子(轉(zhuǎn)速達(dá) 15000rpm)形成強(qiáng)剪切場,配合特殊分散腔結(jié)構(gòu),高效破除石墨烯片層團(tuán)聚。它能實(shí)現(xiàn)漿料均勻分散,保障石墨烯導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能,適配鋰電、復(fù)合材料等領(lǐng)域,且可精準(zhǔn)控溫防氧化,滿足不同場景下漿料穩(wěn)定性與純度要求。

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    2025-11-04

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